平面光柵是扁平衍射光柵，廣泛應(yīng)用于工業(yè)領(lǐng)域，如單色儀和多色儀、激光技術(shù)和分光、航空航天工程領(lǐng)域及反射標(biāo)準(zhǔn)。平面機(jī)械刻劃光柵專為一階衍射而設(shè)計(jì)，通過(guò)自動(dòng)校直在某些波長(zhǎng)上獲得非常大衍射效率。通過(guò)刻線間距、槽型深度和閃耀角來(lái)定義能量分布。

蔡司平面光柵對(duì) 150 nm 和 50 μm 之間的光譜范圍進(jìn)行了優(yōu)化。采用機(jī)械刻劃或全息記錄的方式制作光柵，所采用方法取決于是否能獲得優(yōu)異的結(jié)果。可能的光柵槽型有刻痕或閃耀、正弦和層狀或二進(jìn)制。

蔡司平面光柵生產(chǎn)簡(jiǎn)介：蔡司的平面光柵屬衍射光柵，使用兩種生產(chǎn)方法：1)全息方法；2)刻劃?rùn)C(jī)刻復(fù)制。為符合各行業(yè)需要，光柵在100nm-50μm有很好的優(yōu)化性能，按光柵溝槽輪廓分類，我們把供：1)中階梯；2)正弦；3)淺槽式。歡迎索取相關(guān)樣本。

蔡司平面光柵簡(jiǎn)介 (Plane Grating)

平面光柵應(yīng)用

• 單色儀 / Monochromators 
• 光譜儀 / Spectrometers 
• 激光技術(shù) / Laser technology 
• 光束分離器 / Beam dividers 
• 空間技術(shù) /Space technology 
• 反射標(biāo)淮 / Reflection standards

滿足各種應(yīng)用，優(yōu)化光柵適用于100nm-50μm，光柵是機(jī)械刻劃或全息生產(chǎn)，光柵輪廓可以下顯示：

• 中階梯光柵 / echelette 
• 正弦 / sinus 
• 流層式 / aminar 

平面光柵的機(jī)械刻劃，使用自動(dòng)準(zhǔn)直產(chǎn)生一階衍射譜，而能量即由線距、輪廓深度、閃耀角度分配。使用自動(dòng)準(zhǔn)直產(chǎn)生的光柵對(duì)某波長(zhǎng)(閃耀波長(zhǎng))給出*大效率，Czerny-Turner設(shè)計(jì)被經(jīng)常應(yīng)用。

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